[20p-PA3-1~42] 12.3 機能材料・萌芽的デバイス

[20p-PA3-22] 低強度光で透過率減衰を示す高分子逆過飽和吸収材料の開発

〇(M1)益子 竜司¹、戸谷 健朗¹、山下 俊²、渡邊 敏行¹ (1.農工大院工、2.東工科大工)

キーワード：非線形光学、逆過飽和吸収、燐光

逆過飽和吸収(RSA)は入射光強度の増加に伴って透過率が減衰する現象である。現在報告されているRSA材料は成型加工性に乏しく、機能発現に高強度のレーザーを必要とするため実用化が困難である。本研究では成型加工性に優れた高分子を用いて低強度光でも機能発現する材料の開発を狙った。長寿命燐光高分子に光増感剤としてイリジウム錯体をドープして作製した新規高分子RSA材料は従来の高分子RSA材料より百万分の一低強度で機能発現した。