2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

[21a-E216-1~4] 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

2019年9月21日(土) 09:00 〜 10:00 E216 (E216)

安藤 裕一郎(京大)

09:00 〜 09:15

[21a-E216-1] Influence of FeCo termination layer insertion on voltage-controlled magnetic anisotropy effect in the Ir-doped Fe/MgO junction

Takayuki Nozaki1、Masaki Endo2、Tatsuya Yamamoto1、Tomohiro Nozaki1、Makoto Konoto1、Hiroyuki Ohmori2、Yutaka Higo2、Hitoshi Kubota1、Akio Fukushima1、Masanori Hosomi2、Yoshishige Suzuki1,3、Shinji Yuasa1 (1.AIST、2.Sony Semiconductor Solutions Corp.、3.Osaka Univ.)

キーワード:Spintronics, Voltage-controlled magnetic anisotropy, Magnetic tunnel junction

Voltage-controlled magnetic anisotropy(VCMA) effect is a promising approach to realize the magnetization switching with ultra-low power. In this work, we investigated an influence of insertion of ultrathin FeCo termination layer in the Ir-doped Fe/MgO junctions. The introduction of CoFe alloy with Co-rich composition resulted in the enhancement of the VCMA coefficient and maximum value of -350 fJ/Vm was achieved.