The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.8 Optical properties and light-emitting devices

[21a-E302-1~13] 13.8 Optical properties and light-emitting devices

Sat. Sep 21, 2019 9:00 AM - 12:15 PM E302 (E302)

Kenji Shinozaki(AIST)

11:30 AM - 11:45 AM

[21a-E302-11] Ultraviolet penetration depth determination of Ca0.6Sr0.4TiO3:Pr3+ film by thickness dependence of photoluminescence intensity

〇(P)Norihiro Oshime1, Hiroshi Takashima1 (1.AIST)

Keywords:oxide phosphor, semiconductor, penetration depth

蛍光体のフォトルミネッセンス (PL) 強度を制限する要素の一つとして,励起光の侵入長が挙げられる。侵入長を超えた領域からPLは得られず,希土類を用いる蛍光体の省資源化,薄膜PLデバイス薄型化の観点から侵入長の決定は非常に重要である。本研究では,PL強度の膜厚依存性から酸化物蛍光体薄膜の励起光 (紫外領域) の侵入長を決定する手法を開発したのでそれを示す。