2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[21a-PA3-1~7] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2019年9月21日(土) 09:30 〜 11:30 PA3 (第一体育館)

09:30 〜 11:30

[21a-PA3-1] Sb 添加β-FeSi2 エピタキシャル膜におけるSi/Fe 組成比の最適化

木下 涼太1、阿部 光希1、江口 元1、寺井 慶和1 (1.九工大情報工)

キーワード:β-FeSi2、Sb添加

我々はβ-FeSi2エピタキシャル膜の電子密度制御を目的にSb添加β-FeSi2エピタキシャル膜を作製し,N2雰囲気中600 °C の活性化処理を行った試料において6 × 1018 cm-3の電子密度を得ることに成功した.本研究では,エピタキシャル成長時のSi/Fe組成比を変化させてSb添加β-FeSi2エピタキシャル膜を作製し,電子密度とSb置換サイトのSi/Fe組成比依存性を検証した.