15:00 〜 15:15 [10p-W241-4] 反応性プラズマ蒸着法による Ga 添加 ZnO 薄膜における成長速度とキャリア密度の支配因子 〇山本 哲也1、古林 寛1、牧野 久雄1 (1.高知工科大総研)