Jiawei Ni

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発表者・著者、共著者

2019年3月11日(月) 13:45 〜 17:30 W641 (W641)

一般セッション(口頭講演)
| 8 プラズマエレクトロニクス
| 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[11p-W641-1~14] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

16:30 〜 16:45

▼ [11p-W641-11] Etching reactions of Si, SiO₂, and SiN films using with hydrofluorocarbon compounds

〇(M1)Jiawei Ni¹、Toshio Hayashi¹、Kenji Ishikawa¹、Takayoshi Tsutsumi¹、Hiroki Kondo¹、Makoto Sekine¹、Masaru Hori¹ (1.Nagoya University)