一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2019年3月10日(日) 09:00 〜 12:15 W631 (W631)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇西 哲平1、佐藤 俊介1、荒井 健男1、森川 健志1 (1.豊田中研)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇石川 善恵1、越崎 直人2 (1.産総研、2.北大工)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇(B)荒木 崇志1、今井 武史1、吉田 岳人1、梅津 郁朗2、原口 雅宣3 (1.阿南高専、2.甲南大理工、3.徳島大理工)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇加藤 誠也1、鈴木 健太郎1、大谷 潤1、加瀬 征彦2、小野 晋吾1 (1.名工大、2.ウシオ電機)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇石松 勇樹1、西川 隼人1、中嶋 隆1 (1.京大エネ研)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇安東 航太1、石松 勇樹1、中嶋 隆1 (1.京大エネ研)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇渡辺 明1、蔡 金光2、小川 沙也加1、青柳 英二3、伊藤 俊3 (1.東北大多元研、2.Inst. Mat., China Acad. Eng. Phys.、3.東北大金研)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(M1)膝附 拓也1、坂本 盛嗣1、野田 浩平1、佐々木 友之1、川月 喜弘2、後藤 耕平3、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.日産化学(株))
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇溝尻 瑞枝1、Nam Ha Phuong1、伊藤 恭章2、秦 誠一2 (1.長岡技科大、2.名大院工)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇石戸谷 悠治1、成瀬 智哉1、花田 修賢1 (1.弘前大理工)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇川本 兼司1、早瀬 弘基1、青木 珠緒1、梅津 郁朗1 (1.甲南大)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇(M1)片山 裕之1、直井 美貴1、岡田 達也1、田中 康弘2、富田 卓朗1 (1.徳島大工、2.香川大工)
スケジュール
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