一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
2019年3月10日(日) 13:15 〜 17:00 W834 (W834)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇木村 祥太1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇(M1)鈴木 杏奈1,2、クランケル クリスティアン3、戸倉川 正樹1,2 (1.電通大、2.レーザー研、3.ZLM)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇鈴木 将之1、黒田 寛人1 (1.愛知医大)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇今村 陸1、鈴木 智生1、石田 蘭丸1、鈴木 良1、藤井 瞬1、伊藤 瑞生1、牧 英之1,3、ヤン リャン2、田邉 孝純1 (1.慶應大理工、2.ワシントン大、3.JSTさきがけ)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇佐藤 庸一1、平等 拓範1,2 (1.分子研、2.理研)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇Hwan Hong Lim1、Takunori Taira1,2 (1.IMS、2.RIKEN SPring-8)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇廣澤 賢一1、鮫島 成人1、崎村 武司1、柳澤 隆行1、宇藤 健一1 (1.三菱電機)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(M1)藤田 将吾1、杉山 直仁1、神成 文彦1 (1.慶大理工)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(D)Yuanyuan Ma1、Jung-Chen Tung2、Yung-Fu Chen2、Katsuhiko Miyamoto1,3、Takashige Omatsu1,3 (1.Chiba Univ.、2.National Chiao Tung Univ.、3.Molecular Chirality Research Center)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇(DC)Roukuya Mamuti1、Shigeki Nishida1、Shunsuke Goto1、Katsuhiko Miamoto1,2、Takashige Omatsu1,2 (1.Chiba University、2.Molecular Chirality Research Center)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇佐々木 俊1、白石 朋1、豊田 耕平1,2、宮本 克彦1,2、尾松 孝茂1,2 (1.千葉大工、2.千葉大分子キラリティ研)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇吉田 英次1、時田 茂樹1、椿本 孝治1、河仲 準二1 (1.阪大レーザー研)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇谷口 誠治1、コスロービアン ハイク1、李 大治1、本越 伸二1、藤田 雅之1、井澤 靖和1、西方 伸吾2、森岡 朋也2、濱本 浩一2、池淵 博2、大谷 雄一2、金子 毅2、醍醐 浩之2 (1.レーザー総研、2.三菱重工業)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇椿本 孝治1、福石 航1、吉田 英次1、宮永 憲明1,2 (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研)
スケジュール
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