[10a-M112-1~6] 2.3 Application, radiation generators, new technology

[10a-M112-4] Evaluation of mirror profile of silicon micropore X-ray optics after ultra long-term annealing

〇Daiki Ishi¹, Yuichiro ezoe¹, Kumi Ishikawa², Masaki Numazawa¹, Maiko Fujitani¹, Ryota Otsubo¹, Aoto Fukushima¹, Hikaru Suzuki¹, Hikaru Nagatoshi¹, Tatsuya Yuasa¹, Yoshiaki Kanamori³, Takaya Ohashi¹, Kazuhisa Mitsuda² (1.Tokyo Metropolitan University, 2.ISAS/JAXA, 3.Tohoku University)

Keywords:MEMS technology, X-ray optics, high temperature annealing

我々は MEMS 技術を応用した独自の超軽量X線望遠鏡を開発している。厚み 300 μm の薄い Si 基板に幅 20 μm の微細穴を多数開け、その側壁を高温アニールで平滑化した後、X線反射鏡として利用する。これまで角度分解能に課題があり、>100 μm スケールの鏡形状を改善する必要があった。そこで高温アニールのプロセス時間を従来の 10時間から 100時間に伸ばし、各アニール時間における鏡形状の変化と角度分解能を評価した。本講演では、超長時間アニール後の性能評価について報告する。