The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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13 Semiconductors » 13.2 Exploratory Materials, Physical Properties, Devices

[10a-PB2-1~18] 13.2 Exploratory Materials, Physical Properties, Devices

Sun. Mar 10, 2019 9:30 AM - 11:30 AM PB2 (PB)

9:30 AM - 11:30 AM

[10a-PB2-9] Influence of annealing condition on carrier density of BaSi2 film

Yuki Kimura1, Michinobu Fujiwara1, Yoshihiko Nakagawa1, Kazuhiro Gotoh1, Yasuyoshi Kurokawa1, Noritaka Usami1 (1.Nagoya Univ.)

Keywords:silicide

BaSi2は、高い光吸収係数と、単接合太陽電池の吸収層として理想的な1.4 eVに近いバンドギャップをもつため薄膜太陽電池材料として注目されている。BaSi2の太陽電池応用のためにはキャリア密度を制御することが必要である。本研究では真空蒸着法により作製したアンドープBaSi2薄膜のキャリア密度にポストアニール時のカバー物質が与える影響を調査した。ポストアニール温度900℃においてカバー物質に依存して伝導型が変化することが確認された。