[10a-S321-1~13] 1.3 新技術・複合新領域

[10a-S321-4] 急速乾燥技術によるウェット洗浄後パターン閉塞抑制プロセスの開発

〇松下 淳¹、長嶋 裕次¹、林 航之介¹、永原 聖万¹、宮崎 邦浩¹ (1.芝浦メカトロニクス)

キーワード：半導体、乾燥、パターン閉塞

近年、シリル化乾燥、超臨界乾燥等の乾燥技術の開発がさかんであるが、我々はパターン閉塞抑制技術として、IPA等薬液を用いず、ウェハ加熱を用いることでパターン表面液層を気化させ、パターン間同士の表面張力を発生させずに乾燥する急速乾燥技術を開発中である。検証の結果、IPAスピン乾燥に対して、急速乾燥技術が優れたパターン閉塞抑制技術であることが判明したため報告する。