The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[10a-W323-1~9] 6.4 Thin films and New materials

Sun. Mar 10, 2019 9:00 AM - 12:15 PM W323 (W323)

Tetsuo Tsuchiya(AIST)

10:15 AM - 10:30 AM

[10a-W323-6] Growth of Lanthanum Hexaboride Films for High-Temperature IR Emitters

R.P. Sugavaneshwar1, D.T. Ngo1,2, Naoki Furuhata1, 〇Tadaaki Nagao1,2 (1.MANA-NIMS, 2.Hokkaido Univ.)

Keywords:metal borides, plasmon, high-temperature

本研究では、高耐熱材料であり、共有結合からなるホウ素ネットワーク構造により、高い耐熱性を示す金属ホウ化物に着目し、その中でも金属的性質を持つ六ホウ化ランタン薄膜の高品位成膜を試みた。