2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

9 応用物性 » 9.4 熱電変換

[10a-W351-1~6] 9.4 熱電変換

2019年3月10日(日) 10:30 〜 12:00 W351 (W351)

都甲 薫(筑波大)

11:00 〜 11:15

[10a-W351-3] 多層シリセン積層構造を有するエピタキシャルCaSi2薄膜の熱電特性

寺田 吏1、上松 悠人1、石部 貴史1、中村 芳明1 (1.阪大院基礎工)

キーワード:熱電材料、シリセン、層状物質

近年、安価・無毒なユビキタス材料で構成された熱電材料の開発が求められている。シリセンはグラフェンに類似した構造を有するSiの単原子層膜であり、理論的に高い変換効率(ZT)を示すことが報告されている。本研究では、多層シリセンを結晶構造内に有するCaSi2に着目した。Si基板上にCaSi2薄膜をエピタキシャル成長させ、その熱電特性を解明した。結果、室温での出力因子はシリサイド系薄膜において高い値を示した。