2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[10a-W631-1~12] 3.7 レーザープロセシング

2019年3月10日(日) 09:00 〜 12:15 W631 (W631)

西 哲平(豊田中研)、溝尻 瑞枝(長岡技科大)

11:00 〜 11:15

[10a-W631-8] 光渦同軸干渉光を利用したレーザー描画露光法によるフォトレジストへの回折限界を超えた曲線パターンの形成

〇(M1)膝附 拓也1、坂本 盛嗣1、野田 浩平1、佐々木 友之1、川月 喜弘2、後藤 耕平3、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.日産化学(株))

キーワード:光渦、フォトリソグラフィ