[10a-W631-1~12] 3.7 レーザープロセシング

[10a-W631-9] Cuメッシュ電極のフレキシブル基板上へのレーザ直接描画と温度センサ作製

〇溝尻 瑞枝¹、Nam Ha Phuong¹、伊藤 恭章²、秦 誠一² (1.長岡技科大、2.名大院工)

キーワード：フェムト秒レーザ還元、Cuメッシュ電極、フレキシブル基板

フェムト秒レーザ還元を用いて，フレキシブルPDMS基板上へCuメッシュ電極を大気中で直接描画した．低開口数対物レンズ0.45を用いたパルス集光により，焦点から±5 µmの範囲で均一な線幅約20 µmのパターンが得られた．メッシュピッチが大きいほど抵抗率は低く，50 µmのとき1.3×10^-5 Ωmとなった．ピッチが大きいほど周囲への熱影響は小さく再酸化が抑制されたためと考えられる．Cuメッシュ温度センサは抵抗温度係数0.004/ºCを示し，測温可能であった．