[10a-W641-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[10a-W641-2] NiO/ZnO ヘテロ界面におけるポストプロセスの影響と劣化メカニズムの検討

〇加藤 匠秀¹、竹内 航平¹、王 澤樺¹、田沼 涼¹、杉山 睦^1,2 (1.東理大 理工、2.東理大 総研)

キーワード：酸化ニッケル、界面、ワイドバンドギャップ