The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.1 Fundamental properties, surface and interface, and simulations of Si related materials

[10a-W934-1~11] 13.1 Fundamental properties, surface and interface, and simulations of Si related materials

Sun. Mar 10, 2019 9:00 AM - 12:00 PM W934 (W934)

Koichiro Saga(Sony), Takashi Hasunuma(Univ. of Tsukuba)

11:30 AM - 11:45 AM

[10a-W934-10] Changing the Water-repellent of Defect-free and Ordered Nano-pillar Array Structures Fabricated by Bio-template Ultimate Etching

〇(B)Sou Takeuchi1, Daisuke Ohori1, Teruhisa Ishida2, Mami Tanaka2, Masahiro Sota2, Seiji Samukawa1,3 (1.IFS, Tohoku Univ., 2.NAGASE & CO., LTD., 3.AIMR, Tohoku Univ.)

Keywords:Water-repellent, Si Nano-pillar Structure, Neutral Beam Etching

固体表面における撥水性の研究は、様々な応用分野で注目を集めている。我々は独自技術であるバイオテンプレート極限加工技術を用いて高均一・高密度・無欠陥の10nmサイズのSiナノピラー構造を作製した。本研究では、配置制御されたSiナノピラー構造の間隔や長さを変化させることで、表面における撥水効果の制御について検討した。