[10p-M103-1~7] Carbon related materials and plasma processing; state of the art and subjects

[10p-M103-7] Plasma processing for diamond electronics

〇Mutsuko Hatano¹, Takayuki Iwasaki¹ (1.Tokyo Tech)

Keywords:diamond, CVD

ダイヤエレクトロニクスは、次世代パワーデバイスや従来のセンサを凌駕する量子センサとして期待されている。それらのキー技術は、マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤの合成、及びICPドライエッチングによる加工であり、いずれもプラズマプロセスが重要である。本講演では、ダイヤ中の窒素-空孔(NV)センタを用いた量子センサにおいて、感度向上重要なセンサ膜の合成を中心に紹介する。