2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

[10p-M114-1~12] 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

2019年3月10日(日) 13:30 〜 18:15 M114 (H114)

中村 大輔(九大)

16:15 〜 16:30

[10p-M114-6] 時間分解解析を用いたレーザー照射によるレジスト剥離現象の解明II

〇(B)西岡 直樹1,3、梅田 悠史1、船本 祐介1、島 大地1、神村 共住1、堀邊 英夫2、吉村 政志3、中村 亮介3 (1.大阪工業大学、2.大阪市立大学、3.大阪大学)

キーワード:光学、レーザー損傷