[10p-M114-1~12] 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

[10p-M114-7] 波長掃引光源を用いた光干渉断層法によるフェムト秒レーザー加工の穴深度のインプロセス計測

〇長谷川 智士¹、藤本 正俊²、早崎 芳夫¹ (1.宇都宮大、2.浜松ホトニクス)

キーワード：フェムト秒レーザー加工、光断層干渉法

本研究では，フーリエドメイン光干渉断層法(FD-OCT) を用いて，レーザー加工中の穴深 度のインプロセス計測を行う．FD-OCT は，機械的な走査が不要で瞬時に深さ情報を定量的に取得できるため，インプロセス計測に適し ている．また，FD-OCT の中でも波長掃引型 (SS-OCT)は，光散乱の影響を受けにくい波 長1.3µm帯を利用するため，レーザー加工時に発生する噴出物の影響下での計測を可能にする．