2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

[10p-M114-1~12] 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

2019年3月10日(日) 13:30 〜 18:15 M114 (H114)

中村 大輔(九大)

17:15 〜 17:30

[10p-M114-9] 任意波形ナノ秒パルスレーザー加工系の開発

〇(M1)遠藤 翼1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)

キーワード:レーザー加工、ナノ秒パルス、任意波形制御

物質が破壊に至るエネルギーの時空間ダイナミクスを明らかにするため,パルスの時間形状を任意制御できるナノ秒パルスレーザー加工系を開発し,パルス形状が加工に与える影響を物性の異なる複数の資料に対して調べた。