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[10p-PB5-48] FET application of vapor-phase deposited monolayer MoS2 and WS2 using alkali salts as assist reagents.
Keywords:layered material, chemical vapor deposition, field effect transistor
MoS2やWS2等の遷移金属ダイカルコゲナイドは、アルカリ塩をアシスト剤として化学気相成長(CVD)法や物理気相成長(PVD)法により大面積薄膜が得られることがわかっている。本研究では、アルカリ塩をアシスト剤として成長させた薄膜を用いて電界効果トランジスタ(FET)を作製し、性能の評価を行った。また、アシスト剤の違いによるFET特性への影響を調査した。