2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/配線/集積化技術

[10p-S221-1~10] 13.5 デバイス/配線/集積化技術

2019年3月10日(日) 13:45 〜 17:00 S221 (S221)

入沢 寿史(産総研)、内田 建(東大)

16:30 〜 16:45

[10p-S221-9] Technology Platform Development of Multichip-to-Wafer3D Integration (2)
- SiO2LinerTechnology for Low TemperatureTSV Process -

〇(M1)Rui Liang1、Sungho Lee2、Yuki Miwa3、Hisashi Kino4、Hisashi Fukushima2、Tetsu Tanaka1,2 (1.Grad. Sch. of Biomedical Engineering, Tohoku Univ.、2.Grad. Sch. of Engineering, Tohoku Univ.、3.Sch. of Engineering Tohoku Univ.、4.FRIS, Tohoku Univ.)

キーワード:TSV, Multichip-to-Wafer