[10p-W241-1~8] 金属酸化物による新技術の開拓Ⅰ～薄膜形成からデバイス創出に至るまで～

[10p-W241-1] 金属酸化物薄膜トランジスタの信頼性劣化現象

〇浦岡 行治¹、パオロ ベルムンド¹、藤井 茉美¹、上沼 睦典¹、石河 泰明¹ (1.奈良先端大)

キーワード：金属酸化物薄膜、薄膜トランジスタ、信頼性

金属酸化物薄膜トランジスタは次世代のディスプレイを実現するための駆動素子として、盛んに研究されている。このためには、薄膜トランジスタの性能向上だけでなく、信頼性の向上も重要である。従来のシリコン薄膜トランジスタと比較して、酸化物特有の様々な劣化現象が報告されている。本講演では、バイアス（DC, AC)ストレス劣化、光照射による劣化、ジュール熱による劣化現象について、劣化メカニズムと向上対策について紹介する。