2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 金属酸化物による新技術の開拓Ⅰ~薄膜形成からデバイス創出に至るまで~

[10p-W241-1~8] 金属酸化物による新技術の開拓Ⅰ~薄膜形成からデバイス創出に至るまで~

2019年3月10日(日) 13:30 〜 17:15 W241 (W241)

清水 耕作(日大)、木村 睦(龍谷大)

16:00 〜 16:45

[10p-W241-6] 有機EL応用を目指したアモルファス酸化物半導体

細野 秀雄1 (1.東工大元素センター)

キーワード:半導体、酸化物、有機EL

OLEDなどのデバイス応用では、活性層だけでなく電極から活性層まで電子や正孔を輸送・注入する材料も同様に重要である。これまで、有機ELでは正孔に関しては有機物やMoO2が、電子注入層としてはLiF+Alがよく用いられている。しかしながら、前者では移動度が小さく、後者では化学的に不安定で、かつ逆積み構造では注入層障があまり低減しないなどの課題がある。本講演ではこれらの解決を目指して開発した材料を紹介する。