[10p-W241-1~8] Pioneering of Frontier technology for metal oxide novel device I -from thin film fabrication to device creation -

[10p-W241-7] Thin Film Growth Mechanism in Mist CVD

〇Toshiyuki Kawaharamura^1,2, Misaki Nishi¹, Li Liu¹, Masahito Sakamoto¹, Phimolphan Rutthongjan¹, Shota Sato¹, Mariko Ueda¹, Tatsuya Yasuoka¹, Ryo Hasegawa¹, Yuki Tagashira¹, Tamako Ozaki¹, Giang T. Dang¹ (1.School of Sys. Eng., Kochi Univ. of Tech., 2.Res. Inst., Kochi Univ. of Tech.)

Keywords:mist CVD, thin film growth mechanism

ミストCVDでは供給された液滴中に含まれる原料がどのように薄膜形成に寄与しているのか明確にはわかってなかった。今回は実験と理論からミストCVDにおける薄膜成長メカニズムが判明したので、報告する。