2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[10p-W541-1~20] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年3月10日(日) 13:30 〜 19:00 W541 (W541)

岩谷 素顕(名城大)、本田 善央(名大)、新田 州吾(名大)

15:00 〜 15:15

[10p-W541-7] 両極性同時成長法を用いたGaN-QPM結晶の作製および光学特性評価

松久 快生1、小林 佑斗1、杉田 篤1、井上 翼1、中野 貴之1 (1.静大院工)

キーワード:GaN、MOVPE、DP-SAG

GaNはc軸方向に対しGa極性面およびN極性面が存在する.各極性の特徴を利用し,極性構造を用いることでQPM結晶が作製可能であり,SHGデバイスの実現として期待されている.GaN-QPM結晶の作製方法としてカーボンマスクを用いた両極性同時成長法が提案され,開発されている.本研究では現在までに確認された狭ピッチパターン両極性同時成長法の最適条件を用いてGaN-QPM結晶の作製を行い,光学特性を評価した.