The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[10p-W641-1~17] 6.3 Oxide electronics

Sun. Mar 10, 2019 1:45 PM - 6:15 PM W641 (W641)

Kentaro Kinoshita(Tokyo Univ. of Sci.), Yusuke Nishi(Kyoto Univ.)

5:30 PM - 5:45 PM

[10p-W641-15] Introducing MOF single crystal into small CBRAM devices by a selective growth method of MOF

〇(M1)Atsushi Shimizu1,2, Kentaro Kinoshita1, Yusuke Nakaune1, Hisashi Shima2, Makoto Takahashi2, Yasuhisa Naitoh2, Hiroyuki Akinaga2 (1.Tokyo Univ. of Sci., 2.AIST)

Keywords:MOF, ReRAM, CBRAM

導電性ブリッジメモリ(CBRAM)は,アナログ動作が可能で,ニューロデバイス利用に向けた研究が盛んである.しかし,CBRAMには,スイッチ電圧や抵抗比がばらつく等の課題がある.この課題を解決するため,我々はCBRAMのメモリ層を従来の金属酸化物膜から金属有機構造体(MOF)に置き換えることを提案してきた.今回,実デバイス構造にMOFを導入するため,MOFを選択的に合成する手法を提案すると同時に,同素子で確認されたCBRAM動作について報告する.