2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[10p-W833-1~17] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2019年3月10日(日) 13:15 〜 17:45 W833 (W833)

正井 博和(産総研)、吉田 憲充(岐阜大)、中岡 俊裕(上智大)

15:45 〜 16:00

[10p-W833-10] 【注目講演】[講演奨励賞受賞記念講演] 不揮発性相変化メモリ用遷移金属カルコゲナイド相変化材料の開発

齊藤 雄太1、畑山 祥吾2、雙 逸2、進藤 怜史2、フォンス ポール1、コロボフ アレクサンダー1、小林 啓介3,4,5、須藤 祐司2 (1.産総研ナノエレ、2.東北大工、3.原子力機構、4.高知工大、5.名大)

キーワード:相変化材料、カルコゲナイド、不揮発性メモリ

次世代の不揮発性メモリとして期待される相変化メモリ用の新材料として、遷移金属を含むカルコゲナイド材料の開発を行ってきた。遷移金属を含むカルコゲナイドは、従来の相変化材料に比べて結晶化温度が高く、相の安定性に優れるという特徴を有する。本講演では、これまでの材料開発の経緯と、それに基づいた新しい材料探索の指針について発表を行う。