The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

16 Amorphous and Microcrystalline Materials » 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

[10p-W833-1~17] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

Sun. Mar 10, 2019 1:15 PM - 5:45 PM W833 (W833)

Hirokazu Masai(AIST), Norimitsu Yoshida(Gifu Univ.), Toshihiro Nakaoka(Sophia Univ.)

3:15 PM - 3:30 PM

[10p-W833-9] Anticorrosion Characteristics of Nb2O5 Laminated Coating by Room Temperature Atomic Layer Deposition

〇(DC)Kazuki Yoshida1, Masanori Miura2, Ying Jie1, Kanomata Kensaku2, Fumihiko Hirose1 (1.Yamagata Univ., 2.ROEL Yamagata Univ.)

Keywords:atomic layer deposition, thin film, anticorrosion

Al2O3は高い安定性を持つことから耐腐食材料として知られている。一方で薄いAl2O3膜では水や酸による腐食を防ぎきれない。これに対してNb2O5を積層することで耐腐食性能が大きく改善する報告がある。しかし高温での成膜が必須であり、フレキシブルエレクトロニクス分野への応用が難しい。本研究では室温原子層堆積法を用いてAl2O3とNb2O5の積層膜を形成し高い耐腐食性能を得ることに成功したのでこれを報告する。