13:30 〜 14:00
[10p-W933-1] デバイスから見た2D/3Dナノ計測の必要性
キーワード:半導体、デバイス、立体構造
Si系半導体は、21世紀初頭より、所謂スケーリング則を指導原理とする開発限界を打破すべく、微細化に頼らない高性能化技術にも注力する事となる。その代表例の一つが平面型素子の3次元化で、トランジスタチャネルの立体構造への変更や、積層化技術を駆使した3次元メモリ素子の実現などが典型例である。そこで本講演ではSi系半導体素子の最新動向を紹介し、その開発を支えるナノ解析技術への期待の一端について議論する。