2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 新デバイス・材料開発のためのナノスケール2次元/3次元分析(II)

[10p-W933-1~9] 新デバイス・材料開発のためのナノスケール2次元/3次元分析(II)

2019年3月10日(日) 13:30 〜 17:45 W933 (W933)

松本 祐司(東北大)、古川 貴司(日立ハイテク)

15:45 〜 16:15

[10p-W933-6] ミラー電子顕微鏡によるSiCウェハ表面微小欠陥検出

長谷川 正樹1、小林 健二1、兼岡 則幸1、尾方 智彦1、大平 健太郎1、川上 和弘1、郡司 毅志1、小貫 勝則1 (1.日立ハイテク)

キーワード:ミラー電子顕微鏡、SiC、結晶欠陥

ミラー電子顕微鏡は負電位が印加された試料の表面近傍で跳ね返った電子線を結像することにより,試料表面の電位分布を非破壊で可視化する顕微鏡である。次世代パワーデバイス材料として導入が進むSiCウェハの欠陥検出技術への適用について紹介する。