The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Symposium (Oral)

Symposium » Nanoscale 2D/3D analyses for new device and materials development II

[10p-W933-1~9] Nanoscale 2D/3D analyses for new device and materials development II

Sun. Mar 10, 2019 1:30 PM - 5:45 PM W933 (W933)

Yuji Matsumoto(Tohoku Univ.), Takashi Furukawa(Hitachi High-Technologies Corporation)

5:15 PM - 5:45 PM

[10p-W933-9] Three dimensional structural obserbation for nanodevice and crystal defects measured by X-ray

Kazuhiko Omote1, Yoshiyasu Ito1 (1.Rigaku Corp.)

Keywords:device structure, X-ray topography

X線は,物質との相互作用が比較的弱いため材料をそのまま透過する特徴があり,内部に形成された構造を壊すことなく観測することができる.特に,X線の散乱や回折現象を利用することにより,単純な透過法では測定が困難な,数nmレベルの微細な構造や単結晶中における10-5オーダーの格子歪みを観測することも可能である.本講演では,これらの特徴を活かした,デバイス構造や単結晶材料中に存在する欠陥の三次元観測に関して紹介する.