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△ [11a-70A-2] 第一原理計算によるSiC/SiO2界面近傍の炭素関連欠陥の構造同定
キーワード:界面欠陥、第一原理計算
SiC MOSFET では、SiC/SiO2界面の高密度欠陥準位による移動度劣化が問題となっている。これまでにC関連欠陥が界面準位の起源として広く疑われてきたが、その安定構造を界面近傍の全領域 (SiC 側、SiO2側、ジャスト界面) で理論的に調査した報告はほぼ皆無である。そこで我々は、エネルギー論に従い、界面近傍の全領域でC 欠陥の安定構造の同定を行った。さらに、安定な欠陥については欠陥準位の計算も行なったので、それを報告する。