[11a-PA5-1~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[11a-PA5-1] Two-dimensional thin films preparation by sputtering deposition using powder target I

〇Hiroharu Kawasaki¹, Tamiko Ohshima¹, Yoshihito Yagyu¹, Takeshi Ihara¹, Masanori Shinohara¹ (1.Nat. Ins. Tech, Sasebo Col.)

Keywords:Powder target, Two-dimensional film

多穴型のターゲットホルダを作製し、それを用いて2次元空間分布を持つ多元素薄膜を１度のプロセスでできないか検討した。その結果、２次元分布をもつ薄膜が作成されていることが分かった。それぞれの組成を調べたところ、薄膜の２次元分布はターゲットの２次元分布とほぼ同様であることが分かった。