The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[11a-PA5-1~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Mon. Mar 11, 2019 9:30 AM - 11:30 AM PA5 (PA)

9:30 AM - 11:30 AM

[11a-PA5-1] Two-dimensional thin films preparation by sputtering deposition using powder target I

Hiroharu Kawasaki1, Tamiko Ohshima1, Yoshihito Yagyu1, Takeshi Ihara1, Masanori Shinohara1 (1.Nat. Ins. Tech, Sasebo Col.)

Keywords:Powder target, Two-dimensional film

多穴型のターゲットホルダを作製し、それを用いて2次元空間分布を持つ多元素薄膜を1度のプロセスでできないか検討した。その結果、2次元分布をもつ薄膜が作成されていることが分かった。それぞれの組成を調べたところ、薄膜の2次元分布はターゲットの2次元分布とほぼ同様であることが分かった。