[11a-PA5-1~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[11a-PA5-2] Magnetic Mirror Type Magnetron Sputtering Cathode for Low Gas Pressure Operation

〇Yuuto Kawato¹, Taisei Motomura², Minami Kajiwara¹, Tatsuo Tabaru², Masato Uehara², Tetsuya Okuyama¹ (1.NIT, Kurume College, 2.AIST)

Keywords:Magnetron Sputtering, Plasma Sputtering

プラズマスパッタリングは、半導体産業をはじめとして広く応用されている。その中でもマグネトロンカソードは、さらに高速成膜に有用であるとして一般的に用いられている。先行研究で開発された磁気ミラー型マグネトロンカソードは、マグネトロン放電特有のドーナツ型放電領域をターゲット中心近傍まで伸長させ、ターゲット使用効率を改善し、低パワー密度の直流放電を可能にする。発表では、本カソードの放電特性について述べる。