The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[11a-PB4-1~18] 15.4 III-V-group nitride crystals

Mon. Mar 11, 2019 9:30 AM - 11:30 AM PB4 (PB)

9:30 AM - 11:30 AM

[11a-PB4-7] Growth temperature dependence of high In composition GaInN grown by RF-MBE

Ryosuke Yoshida1, Yusuke Nakajima1, Hiroki Hirukawa1, Tomohiro Yamaguchi1, Takeyoshi Onuma1, Toru Honda1 (1.Kogakuin Univ.)

Keywords:GaInN

GaInNはIn組成を制御することによって0.7eVから3.4eVまでをカバーすることができる直接遷移半導体であり,可視光領域全てをカバーすることができる非常に魅力的な材料である.しかし,GaInNは長波長(黄~赤色)になるほど効率の良い発光を示さなくなる.この問題の要因はGaInN中の結晶欠陥である.結晶欠陥が起きる原因としてGaNとInNとの大きな格子不整合(~11%)による問題,およびそれに付随する格子緩和の影響がある.そのため現在は,GaN上にGaInN成長した青・緑LEDが実用化されているが,赤色LEDにはAlGaInP/GaAsが主に用いられている.そこで,低転位GaInN下地層を提案する.GaInN下地層は成長温度が重要なパラメータである