2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイス

[11p-M103-1~10] 13.6 ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイス

2019年3月11日(月) 13:15 〜 16:00 M103 (H103)

中岡 俊裕(上智大)、眞田 治樹(NTT)

14:00 〜 14:15

[11p-M103-4] GaAs/Al0.3Ga0.7As量子井戸における低温でのスピン緩和時間の井戸幅依存性

松田 侑己1、中村 雄一1、孫 啓明1、田代 大吾1、山内 敬仁1、下村 哲2、竹内 淳1 (1.早大先進理工、2.愛媛大理工)

キーワード:スピン緩和、GaAs/AlGaAs 量子井戸、ポンプ・プローブ反射計測

本研究では、井戸幅の異なるGaAs/AlGaAs量子井戸のスピン緩和時間を時間分解ポンプ・プローブ反射計測によって測定し、低温におけるスピン緩和時間の井戸幅依存性を調べた。その結果、井戸幅1.8 nmから2.6 nmの間でスピン緩和時間の負の井戸幅依存性が観測された。これは低温でのスピン緩和機構であるEY効果から期待される井戸幅依存性とは異なるため、低温域におけるスピン緩和機構の解明に貢献し得ると考えられる。