[11p-W323-1~15] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[11p-W323-14] Preparation of silicon polymer thin film by plasma-assisted electrospray deposition system

〇(M2)Kohei Hashimoto¹, Yuta Kuwahata¹, Hiroaki Takehara^1,2, Takanori Ichiki^1,2 (1.Univ. of Tokyo, 2.iCONM)

Keywords:electrospray, plasma

ジェットプリンティング技術の中でも特にエレクトロプレー堆積 (ESD) 法は幅広い材料加工に使用することが可能であるが、電荷蓄積が起こる絶縁基板上への適用が困難である。交流型のESD法はプロセスの汎用性等の観点からは十分な解決策ではないと考えられる。そこで我々は、絶縁基板上に適用可能な材料使用効率の良い薄膜作成プロセスとしてプラズマ支援エレクトロスプレー堆積法を新たに開発し、実際に成膜を行い、評価した。