Epitaxial growth of &beta;-Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub> thin films with mist CVD

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2019年3月12日(火) 09:30 〜 11:30 PA3 (屋内運動場)

09:30 〜 11:30

〇(D)Zaichun Sun¹、Daichi Oka¹、Tomoteru Fukumura^1,2,3 (1.Dept. Chem., Tohoku Univ.、2.WPI-AIMR, Tohoku Univ.、3.Core Research Cluster, Tohoku Univ.)

キーワード：Bismuth oxide, Mist CVD, Epitaxial thin film