[12a-PB3-1~16] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[12a-PB3-15] ドライエッチング法を用いたBN膜のパターニング

〇松田 崇行¹、野間 正男²、山下 満³、長谷川 繁彦⁴、占部 継一郎⁵、江利口 浩二⁵、李 相錫¹ (1.鳥大院工、2.神港精機、3.兵庫県立工業技術センター、4.阪大産研、5.京大工)

キーワード：MEMSスイッチ、窒化ホウ素膜