[12a-PB3-1~16] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[12a-PB3-7] 結晶Siナノ領域におけるボロン不純物分布の1at.%分解能STEM-EELS分析

〇浅野 孝典¹、高石 理一郎¹、田中 洋毅¹、宮川 英典¹、齋藤 真澄¹ (1.東芝メモリ（株）)

キーワード：シリコン、ボロン、STEM-EELS