2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.3 層状物質

[12a-W521-1~10] 17.3 層状物質

2019年3月12日(火) 09:00 〜 11:30 W521 (W521)

町田 友樹(東大)

09:30 〜 09:45

[12a-W521-3] TaSe2エピタキシャル薄膜のMBE成長と輸送特性

田中 勇貴1、松岡 秀樹1、中野 匡規1、岩佐 義宏1,2 (1.東大院工、2.理研CEMS)

キーワード:超伝導、遷移金属ダイカルコゲナイド、分子線エピタキシー法

NbSe2に代表されるV族遷移金属ダイカルコゲナイド(TMD)の超薄膜は、空間反転対称性の破れと大きなスピン軌道相互作用に起因する特異な超伝導状態(イジング超伝導)を示すため、非常に興味深い物質系である。本研究では、NbSe2とは大きく異なった電子構造をもつ金属TMDであるTaSe2に着目する。分子線エピタキシー(MBE)法を用いた良質なTaSe2超薄膜を作製し、それらの輸送特性の評価を行った。