2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[12a-W641-1~14] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2019年3月12日(火) 09:00 〜 12:45 W641 (W641)

竹田 圭吾(名城大)、鈴木 陽香(名大)

11:30 〜 11:45

[12a-W641-10] RF-DC結合電源を用いたハイブリッド対向スパッタによるITO薄膜作製II
-スパッタ電圧の可動棒磁石移動距離依存性-

諸橋 信一1 (1.山口大学)

キーワード:ハイブリッド対向スパッタ、ITO薄膜

ハイブリッド対向スパッタ (HFTS)は真空を破らずに容易にプラズマ状態・スパッタ電圧をその材料に最適な状態に設定・制御しかつ,高エネルギー粒子の基板衝撃効果の抑制ができるという特徴をもつ。ハイブリッド対向スパッタで,RF-DC結合電源を用いた効果の可動棒磁石移動距離依存性について調べた。