2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[12p-W541-1~12] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年3月12日(火) 13:30 〜 17:00 W541 (W541)

小島 一信(東北大)、船戸 充(京大)

14:00 〜 14:15

[12p-W541-2] ナノPSS上スパッタ堆積アニールAlN膜を基板に用いたホモエピ成長

伊庭 由季乃1、正直 花奈子2、上杉 謙次郎3、肖 世玉4、三宅 秀人2,4 (1.三重工、2.三重大院工、3.三重大地域創生戦略企画室、4.三重大院地域イノベ)

キーワード:窒化アルミニウム、有機金属気相成長、ナノPSS

周期的に配列された円錐型ホールをもつNPSS上に、スパッタ堆積AlN膜のFFAを行い、その基板上に有機金属気相成長法を用いてAlN膜を成長させ、平坦部(c面)で形成される転位の低減と転位の挙動、AlN会合メカニズムを調べた。NPSSの凹部ではAlN膜の横方向成長によりホール上にボイドが形成され、ホール側面ではホール中心に向けて傾いたc軸配向を有するグレインが観察された。AlN膜厚が1.2 µm付近で会合し一部で混合転位が形成されている。