[9a-M114-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[9a-M114-3] ミニマルTiN反応性スパッタ装置の成膜特性（２）

〇野田 周一¹、古賀 和博²、根本 一正¹、薮田 勇気³、山本 直子³、亀井 龍一郎³、クンプアン ソマワン^1,2、原 史朗^1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ推進機構、3.誠南工業（株）)

キーワード：ミニマルファブ、TiNメタルゲート、TiN反応性スパッタ