[9a-M114-1~12] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[9a-M114-4] Study for Quality Improvement of Minimal Plasma TEOS Film by Using Quality Engineering

〇Noriko Miura¹, Kazuhiro Koga¹, Hiroyuki Tanaka^1,2, Yoshiyuki Nozawa³, Toshihiro Hayami³, Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.MINIMAL, 2.AIST, 3.SPPT)

Keywords:minimalfab, plasma CVD, Quality Engineering

ミニマルファブでは、絶縁膜成膜装置としてプラズマCVD装置を開発し、プラズマTEOS膜をCMOSデバイスプロセスに適用しているが、実用的なLSIを作製するにあたり、より緻密で安定性の高い膜質が要求される。そこで、品質工学的手法を用い、プロセスパラメータを最適化することでTEOS膜質の向上を図ったので、その結果について報告する。