[9a-M114-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[9a-M114-4] 品質工学を用いたミニマルプラズマTEOS膜の膜質向上の検討

〇三浦 典子¹、古賀 和博¹、田中 宏幸^1,2、野沢 善幸³、速水 利泰³、クンプアン ソマワン^1,2、原 史朗^1,2 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研、3.SPPテクノロジーズ)

キーワード：ミニマルファブ、プラズマCVD、品質工学

ミニマルファブでは、絶縁膜成膜装置としてプラズマCVD装置を開発し、プラズマTEOS膜をCMOSデバイスプロセスに適用しているが、実用的なLSIを作製するにあたり、より緻密で安定性の高い膜質が要求される。そこで、品質工学的手法を用い、プロセスパラメータを最適化することでTEOS膜質の向上を図ったので、その結果について報告する。