2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[9a-M114-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年3月9日(土) 09:00 〜 12:00 M114 (H114)

羽深 等(横浜国大)、曽根 正人(東工大)

11:00 〜 11:15

[9a-M114-9] ダイヤモンドウェハのミニマルファブへの応用

根本 一正1、田中 宏幸1、野田 周一1、三浦 典子2、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ)

キーワード:ミニマルファブ

新材料の典型とも言えるダイヤモンドのデバイスの開発を、ミニマルファブの優位性を踏まえて進める事にした。そこで、ミニマルファブで利用可能な形状のハーフインチダイヤモンド基板を試作する事に成功した。また、このダイヤモンド基板を用いて実際にデバイス向け各種プロセスが可能かどうかもテストしたので、報告をする。