[9a-S421-1~12] 12.7 医用工学・バイオチップ

[9a-S421-12] 電子線描画法による高感度シリコンナノワイヤバイオセンサの作製
およびアトモル濃度の抗原抗体特異結合の検出

〇張 慧^1,2、大嶋 紀安³、大嶋 駆¹、菊池 直樹¹、加治佐 平⁴、坂田 利弥⁵、和泉 孝志³、曾根 逸人¹ (1.群馬大院理工、2.JSPS外国人特別研究員、3.群馬大院医、4.PROVIGATE Inc.、5.東京大院工)

キーワード：シリコンナノワイヤバイオセンサ、電子線描画法、抗原抗体特異結合

電子線描画法を用いたシリコンナノワイヤ(SiNW)バイオセンサの作製プロセスを研究した。超高感度SiNWバイオセンサを実現させるため、不純物ドーピング濃度の最適化、SiNWの細線化及び生体分子高効率結合のための表面処理を行った。精密なプロセスの制御により、幅16.2 nmのSiNWの形成に成功した。抗原抗体特異結合の検出には濃度6 aMで約5 %の抵抗変化率が得られ、検出限界濃度は今まで報告されたSiNWバイオセンサより300倍程度の向上を確認した。